AlN 히터(Mo)

AlN 히터

40년 고융점 금속 가공 기술력과 독보적인 AlN 정밀 패터닝 기술로, 반도체 및 첨단 장비 공정에 최적화된 초정밀 평판 히터를

공급합니다. 미세하게 제어된 동심원 발열체 설계로 급열·급냉 환경에서도 틀어짐 없는 최고의 신뢰성을 보장합니다.

200 W/m·K +열전도율AlN 기판 / 25°C
190 °C / 초최대 승온 속도무부하 기준
± 1 %표면 온도 편차유효 발열면 기준
600 °C +연속 사용 안정진공 챔버 환경

APPLIED PARTS

고정밀 AlN 평판 히터 내부의 발열체 패턴

적용 부품

AlN 세라믹 공정이나 반도체용 부품, 고전류용 스위치, 고주파 전력 증폭장치 등의 용도로 사용되는 장치의 부품입니다.

요구 사양에 맞춰 발열체 패턴을 설계해 제작합니다.

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SPECIFICATIONS

공통 표준 사양

형식과 무관하게 공통으로 적용되는 값입니다. 치수와 전기 사양은 형식 선택에서 확인하십시오.

소재질화알루미늄 (AlN) — 몰리브덴(Mo) 발열체 매립 · 일체 소결
기본 형상동심원형 · 사각 평판 — 정밀 발열 코일은 지그재그 크림프 패턴
열전도율200 W/m·K 이상 — 일반 세라믹(Al₂O₃) 대비 10배 이상
사용 온도600 °C 이상 연속 — 고온 연속 작업 환경에서 안정 유지
승온 속도최대 190 °C / 초 — 패턴 설계와 공급 전력에 따라 상이
온도 균일도± 1 % 이내 — 히터 표면 전체 기준
절연 · 내식발열체 완전 매립 — 공정 가스에 직접 닿지 않아 파티클 · 누설 위험이 낮음

형식 · 주문에 따라 정해지는 값 — 지름 · 두께(OD 150 mm 8-Ring 기준), 저항값 1 ~ 5 Ω, 발열체 선경 0.1 mm 단위, 패턴 피치, 정격 전압 · 전력, 단자 형식(리드 와이어 · 스터드/볼트 · 핀/리본 · 콘택트 패드).

KEY FEATURES

구조가 성능을 만든다

같은 세라믹 히터라도 열이 얼마나 빨리, 얼마나 고르게 퍼지는지가 수율을 가릅니다. AlN 기판과 매립 발열체가 그 둘을 동시에 해결합니다.

CROSS SECTION

AlN 히터 단면 구조

Mo 발열체를 AlN 기판 사이에 넣고 한 번에 소결한 단면입니다.

01

초정밀 패턴 균일성

Precision Pattern Uniformity

히터 전면의 온도 편차를 없애기 위해 발열선 코일의 간격과 선경을 오차 없이 균일하게 배치합니다.

02

열팽창률(CTE) 최적화

Thermal Expansion Matching

고온 가열 및 급격한 냉각이 반복되는 환경에서도 박리나 단선이 생기지 않는 밀착 가공 기술을 적용합니다.

03

미세 가공 및 홀 공차 제어

Micro Machining & Hole Tolerance

센서 삽입부와 복잡한 궤적의 동심원 패턴을 손상 없이 가공하는 고난도 세라믹 · 와이어 성형 역량을 갖추고 있습니다.

일반 세라믹 히터와의 차이

AlN (본 제품)200
Al₂O₃ 세라믹20
석영1.4

열전도율 W/m·K. 값이 클수록 열이 빠르고 고르게 퍼집니다.

왜 수율과 연결되나

열이 느리게 퍼지면 승온 시간이 길어지고, 고르지 않게 퍼지면 웨이퍼 가장자리부터 공정 편차가 생깁니다. 두 값이 함께 좋아야 챔버 안에서 재현성이 나옵니다.

파티클과 누설

발열체가 세라믹 안에 갇혀 있어 공정 가스에 직접 닿지 않습니다. 부식성 가스 환경에서도 파티클 발생과 누설 위험이 낮습니다.

1 ~ 5Ω저항값 범위
0.1mm발열체 선경 조정 단위
가변pitch패턴 피치 조절

DESIGN PRECISION

요구 저항값에 맞춰 설계합니다

히터는 형상보다 저항값이 제품을 가릅니다. 요구 저항과 온도 분포를 받아 선경 · 피치 · 존 구성을 다시 계산해 그립니다. 카탈로그에서 고르는 제품이 아니라, 계산해서 만드는 제품입니다.

pitch존마다 따로 조절line width0.001 mm step

같은 「동심원 분할」 패턴이라도 선경과 피치를 바꾸면 저항값과 발열 분포가 달라집니다. 형상 이름이 같다고 같은 제품이 아닙니다.

1 ~ 5Ω 범위

요구 저항값에 맞춰 설계

목표 저항과 공급 전력을 받아 발열체 길이 · 단면적을 역산합니다. 정확한 수치는 사용 조건을 보고 정합니다.

0.1mm 단위

발열체 선경 조정

선경이 굵으면 저항이 낮고 열이 퍼지며, 가늘면 국부 발열이 강해집니다. 0.1 mm 단위로 잡아 목표 온도 분포를 맞춥니다.

pitch가변

패턴 피치 조절

가장자리 온도가 떨어지는 챔버에서는 바깥 존 간격을 좁힙니다. 존별로 다른 피치를 줘 웨이퍼 전면 편차를 잡습니다.

규격을 고르는 게 아니라, 함께 개발합니다 . (챔버 규격과 목표 온도 · 저항만 알려 주시면 패턴 설계부터 시제품 검증까지 진행합니다.)

APPLICATIONS

적용 분야

AlN 히터가 실제로 쓰이는 여섯 갈래입니다. 공정마다 요구되는 온도 균일도와 승온 속도가 달라, 발열체 패턴을 그에 맞춰 설계합니다.

반도체 증착CVD·ALD 공정에서 웨이퍼를 균일하게 가열하는 서셉터 히터로 사용됩니다.
디스플레이OLED·Micro-LED 제조 시 유기물 입자를 기판에 가열 정착시키는 열원입니다.
반도체 장비 부품정전척(ESC) 일체형 등 챔버 내 고청정 가열 부품으로 적용됩니다.
의료 · 진단혈액 분석기, PCR 등 시료를 초고속으로 가열하는 진단 모듈에 탑재됩니다.
연구 · 분석고온 실험 장비의 정밀 가열 스테이지로 사용됩니다.
표면 처리고온 플라즈마·화학 가스 환경의 표면 처리 공정에 적용됩니다.
CVD · ALDOLED 증착의료 진단

LEAD TIME

제작 · 납기 안내

규격품이 아니라 도면으로 만드는 제품입니다. 문의부터 양산까지 어떻게 진행되는지 미리 알려 드립니다.

STEP 01

도면 접수

챔버 규격, 지름 · 두께, 정격 전압 · 전력, 단자 위치를 보내 주십시오. 도면이 없으면 사용 조건만으로도 시작합니다.

1 일 이내 회신

STEP 02

설계 검토

발열체 패턴과 존 구성을 제안하고 온도 분포를 검토합니다. 필요하면 형상 변경을 함께 제안합니다.

3 – 5 일

STEP 03

시제품 제작

매립 소결 후 표면 온도 편차와 절연 저항을 측정해 성적서와 함께 보냅니다.

확인 필요

STEP 04

양산 납품

승인된 도면 기준으로 양산합니다. 동일 도면 재발주는 검토 단계를 건너뜁니다.

확인 필요

최소 수량

값 없음

형상과 치수에 따라 달라집니다. 시제품은 1 매부터 가능합니다.

표준 납기

값 없음

도면 승인일 기준. 패턴 변경이 있으면 설계 검토 기간이 더해집니다.

함께 드리는 것

시험 성적서

표면 온도 편차 · 절연 저항 측정값을 납품 시 함께 보냅니다.

HANDLING

취급 시 주의

AlN 히터 전용 사항입니다. 세라믹 부품이라 텅스텐·몰리브덴 금속재와 주의점이 다릅니다.

01

세라믹 부품입니다. 낙하나 충격으로 파손될 수 있으니 취급에 주의하십시오.

02

급격한 승온·냉각은 열충격으로 균열을 유발할 수 있습니다. 권장 승온 곡선을 따르십시오.

03

전극 단자부는 청결을 유지하고 맨손 접촉을 피하십시오. 접촉 저항이 늘면 국부 발열의 원인이 됩니다.

04

규정 전압·전류를 초과해 사용하지 마십시오. 발열체 단선의 원인이 됩니다.

05

보관은 건조한 실내에서 방습 포장 상태를 유지하십시오.

설치 · 운전 조건이 특수한 경우 담당자가 사전 검토를 도와드립니다.

CNC 정밀 가공 현장

첨단 소재 공급 및 가공,
Global Material Leader

소재부터 가공품까지, 고객의 입장에서 가장 좋은 Solution을 드립니다.

평일 AM 9:00 ~ PM 5:30 (격주 금요일 PM 4:00 / 주말 · 공휴일 휴무)

현재 고정밀 AlN 평판 히터 페이지를 보고 계십니다.온라인 판매는 하지않습니다. 사양·수량을 문의 주시면 확인 후 견적을 회신드립니다.TOP

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